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日本高校制造出只有一个原子厚的硅薄膜

发布时间:2019-07-17 20:00:10 编辑:笔名

  日本北陆尖端科学技术大学院大学30日宣布,其研究小组开发出能制作大面积硅薄膜 silicene 的技术。这类只有一个原子厚的薄膜,可具有半导体的性质,有望用于制造高速电子线路等。

  研究小组在1厘米长、1厘米宽的硅基板表面,覆盖上陶瓷薄膜,然后在特殊真空装置中将其加热到900摄氏度。因而,硅基板所含的硅元素就穿透陶瓷薄膜,出现在陶瓷薄膜表面,构成硅薄膜。如果将基板做得更大,就可以制作出更大面积的硅薄膜。

  只有一个碳原子厚的石墨烯是迄今世界上最薄的材料,它的发明者由于这种具有诸多奇异性质的材料取得了2010年诺贝尔物理学奖。 silicene 被誉为硅版石墨烯而受到物理学界的关注。

  研究小組帶頭人、北陸尖端科學技術大學院大學副教授高村由起子指出: 今后的課題是弄清 silicene 的構成機制,并開發出將這類薄膜從基板上剝離下來的技術。

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